集成电路布图设计

1. 基本概念
   集成电路布图设计，又称拓扑图，是指集成电路中多个元件（其中至少有一个是有源元件）和其部分或全部互连线路的三维配置，或者是为制造集成电路而准备的上述三维配置。它保护的是芯片上电子元件及其连线的物理布局，而非电路功能或制造工艺。

2. 保护客体
   保护的客体是布图设计本身，即具有独创性的三维配置。独创性标准通常包含两点：一是布图设计是创作者自己的智力劳动成果；二是在布图设计创作者和集成电路制造者中，该布图设计不是公认的常规设计。

3. 权利内容
   权利人享有复制权和商业利用权。复制权指对布图设计的全部或其中任何具有独创性的部分进行复制的权利。商业利用权指将布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用的权利（如进口、销售、许诺销售等）。

4. 权利取得与登记
   布图设计专有权通常通过登记取得。创作者需向主管部门（如中国的国家知识产权局）提交申请，申请文件包括布图设计复制件或图样等。登记是取得权利并受到法律保护的前提，也是权利公示和行使权利的重要依据。

5. 保护期限与限制
   保护期限通常较短，例如，中国的保护期为10年，自登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较早期日为准。权利限制包括反向工程（为分析、研究、教学等目的而复制）和权利用尽（经权利人授权投入市场后，其权利即用尽）。

6. 侵权与救济
   未经许可复制或进行商业利用，即构成侵权。救济措施包括民事救济（如停止侵害、赔偿损失）和行政救济。侵权判定中，需要证明被控侵权的布图设计与受保护的布图设计相同或实质性相似。